真空鍍膜機是目前制作真空條件應用為廣泛的真空設備，一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成。真空鍍膜設備有哪些特點?蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，形成薄膜。

對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且沉積在基片表面，經歷成膜過程，形成薄膜。

真空鍍膜機組成結構是怎樣的？一臺完整的真空鍍膜機是由多部分系統組成的，每個系統可以完成不同的功能。

鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發鍍膜和磁控濺射鍍膜。磁控濺射方式鍍制的膜層附著力強，膜層的純度高，可以同事濺射多種不同成分的材料，離子蒸發鍍膜可以提高膜層的致密性和結合力及均勻性。

真空鍍膜機鍍膜原理一般是根據實際產品工藝需求定制。

真空鍍膜機 真空鍍鋁是在真空狀態下，將鋁金屬加熱熔融至蒸騰，鋁原子凝結在高分子材料外表，構成極薄的鋁層。真空鍍鋁請求基材外表潤滑、平坦、厚度均勻;挺度和摩擦系數恰當;外表張力大于38Dyn/Cm2;熱性能好，經得起蒸騰源的熱輻射和冷凝熱的效果;基材含水量低于0.1%。常用的鍍鋁基材有聚酯(PET)、聚(PP)、聚酰胺(PA)、聚乙烯(PE)、聚(PVC)等薄膜。