顯影適用性

A、走版均勻，波動(dòng)小：

B。審液少（顯影液/水洗、水洗/保護(hù)膠、保護(hù)膠/烘干段） ；

C、版材正反面不易產(chǎn)生劃傷（導(dǎo)軌弧度及材質(zhì)問(wèn)題） ；

D、是否在版面留下臟物（輥?zhàn)哟笮〖坝捕龋?；

E、顯影的均勻性；

F、保護(hù)膠均勻性；

G、顯影不同厚度的版子，是否在顯影上存在區(qū)別；

H、是否易卡版；

1、循環(huán)水的再利用系統(tǒng)

所以用米吐?tīng)栵@影的影像特點(diǎn)是感光度高、影調(diào)柔和、層次豐富。當(dāng)液溫達(dá)到21℃以上時(shí)，定影液中一般要加入堅(jiān)膜劑，以防止乳劑層被破壞。這些特點(diǎn)正是負(fù)光材料所要求的。因此，它是負(fù)片顯影液中的主要成分。除此之外，米吐?tīng)柕娘@影作用受離子和溫度的影響較小，因此顯影性能比較穩(wěn)定從上述的特點(diǎn)可以看出，米吐?tīng)柕哪承┬阅芮∨c對(duì)二酚相反，所以一般實(shí)用配方中，多數(shù)將米吐?tīng)柡蛯?duì)二酚一起配合使用，簡(jiǎn)稱(chēng)為M-Q顯影液。在一定范圍內(nèi)改變兩者的相對(duì)含量，可以獲得各種照相性能要求的顯影液。

Coll imated Light平行光以感光法進(jìn)行影像轉(zhuǎn)移時(shí)，為減少底片與板面間，在圖案上的變形走樣起見(jiàn)，應(yīng)采用平行光進(jìn)行曝光制程。感光測(cè)定是研究曝光量與其在感光材料所產(chǎn)生的黑化程度之間的關(guān)系。這種平行光是經(jīng)由多次反射折射，而得到低熱量且近似平行的光源，稱(chēng)為Coll imated Light，為細(xì)線(xiàn)路制作必須的設(shè)備。由于垂直于板面的平行光，對(duì)板面或環(huán)境中的少許灰塵都非常敏感，常會(huì)忠實(shí)的表現(xiàn)在折曬出的影像上，造成許多額外的缺點(diǎn)，反不如一般散射或漫射光源能夠自相互補(bǔ)而消彌，故采用平行光時(shí)，必須還要無(wú)塵室的配合才行。此時(shí)底片與待曝光的板面之間，已無(wú)需再做抽真空的密接（Close Contact），而可直接使用較輕松的Soft ContactOff Contact 7.

蝕刻、曝光和顯影的意思分別是：

1、蝕刻：

一種將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。通常所指蝕刻也稱(chēng)光化學(xué)蝕刻，指通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

2、曝光：

指在攝影過(guò)程中進(jìn)入鏡頭照射在感光元件上的光量，由光圈、快門(mén)、感光度的組合來(lái)控制。通常是指使感光紙或攝影膠片感光，攝影感光材料的感光。

3、顯影：

在印刷、影印、復(fù)印、曬圖等行業(yè)中，讓影像顯現(xiàn)的一個(gè)過(guò)程。通常指在復(fù)印機(jī)、打印機(jī)中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見(jiàn)的色粉圖像的過(guò)程。