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第二代SiC碳化硅MOSFET在直流充電樁電源模塊中的應用

   日期:2023-07-30     瀏覽:3    評論:0    
核心提示:基本半導體第二代SiC碳化硅MOSFET在直流充電樁電源模塊中的應用傳統的直流充電樁拓撲電路一般是三相交流380V輸入電壓經過PFC維也
 基本半導體第二代SiC碳化硅MOSFET在直流充電樁電源模塊中的應用
 
傳統的直流充電樁拓撲電路一般是三相交流380V輸入電壓經過PFC維也納 AC/DC電路后,得到直流母線電壓,然后經過兩路全橋LLC DC/DC電路,輸出 200V到1000V高壓給新能源汽車充電使用。其中PFC維也納電路AC/DC的開關頻率 40kHz 左右,一般用使用 650V的超結MOSFET或者 650V 的IGBT,劣勢是器件多,硬件設計復雜,效率低,失效率高。新一代直流充電樁拓撲電路會把原來的PFC維也納整流升級為采用第二代SiC碳化硅MOSFET B2M040120Z的三相全橋PFC整流。這樣將大大減少功率器件數量,簡化控制電路的復雜性,同時通過提高開關頻率來降低電感的感量,尺寸和成本。DC/DC全橋LLC部分,升級為采用第二代SiC碳化硅MOSFET B2M040120Z的DC/DC電路,可以從原來的三電平優化為兩電平LLC。這樣可以極大簡化拓撲電路,減少元器件的數量,控制和驅動更加簡單。基于第二代SiC碳化硅MOSFET B2M040120Z的高頻特性,可以提高LLC電路的開關頻率,從而減少磁性器件的尺寸和成本。由于LLC電路是軟開關工作模式,損耗集中在開關管的導通損耗上,由于拓撲結構的原因,流過LLC中SiC碳化硅MOSFET的電流有效值是Si MOSFET電流的一半,所以最終導通損耗大大減小。新一代采用SiC碳化硅MOSFET B2M040120Z的直流充電樁拓撲電路可以提升0.3~0.5%左右的效率。
  
碳化硅MOSFET具有優秀的高頻、高壓、高溫性能,是目前電力電子領域最受關注的寬禁帶功率半導體器件。在電力電子系統中應用碳化硅MOSFET器件替代傳統硅IGBT器件,可提高功率回路開關頻率,提升系統效率及功率密度,降低系統綜合成本。
 
基本半導體第二代碳化硅MOSFET系列新品基于6英寸晶圓平臺進行開發,比上一代產品在比導通電阻、開關損耗以及可靠性等方面表現更為出色。在原有TO-247-3、TO-247-4封裝的產品基礎上,基本半導體還推出了帶有輔助源極的TO-247-4-PLUS、TO-263-7及SOT-227封裝的碳化硅MOSFET器件,以更好地滿足客戶需求。
 
基本半導體第二代碳化硅MOSFET亮點
更低比導通電阻:第二代碳化硅MOSFET通過綜合優化芯片設計方案,比導通電阻降低約40%,產品性能顯著提升。
 
更低器件開關損耗:第二代碳化硅MOSFET器件Qg降低了約60%,開關損耗降低了約30%。反向傳輸電容Crss降低,提高器件的抗干擾能力,降低器件在串擾行為下誤導通的風險。
 
更高可靠性:第二代碳化硅MOSFET通過更高標準的HTGB、HTRB和H3TRB可靠性考核,產品可靠性表現出色。
 
更高工作結溫:第二代碳化硅MOSFET工作結溫達到175°C,提高器件高溫工作能力。
原文鏈接:http://www.kedunwangye.com/news/show-2400.html,轉載和復制請保留此鏈接。
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